大连理工大学主页平台管理系统冯春雷 Determination of the number densities of CH(X2Π) and CH(A2Δ) radicals in a DC cascaded arc discharge plasma 中文主页

冯春雷

高级工程师

性别：男

毕业院校：大连理工大学

学位：博士

所在单位：物理学院

学科：等离子体物理

电子邮箱：

论文成果

Determination of the number densities of CH(X2Π) and CH(A2Δ) radicals in a DC cascaded arc discharge plasma

点击次数：

发布时间：2019-03-12

论文类型：期刊论文

发表时间：2015-01-01

发表刊物：Applied Physics B

卷号：120

期号：9

页面范围：659-666

上一条： Average OH density in alternating current dielectric barrier discharge by laser-induced

下一条： High spatial resolution mapping of deposition layers on plasma facing materials by laser ablation microprobe time-of-flight mass spectroscopy

开通时间：..

最后更新时间：..